Karen S. Babich: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (15)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Advances in Resist Technology and Processing XX - Hardmask technology for sub-100 nm lithographic imaging

Babich, Katherina, Mahorowala, Arpan P., Medeiros, David R., Pfeiffer, Dirk, Petrillo, Karen E., Angelopoulos, Marie, Grill, Alfred, Patel, Vishnubhai, Halle, Scott, Brunner, Timothy A., Conti, Richar

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.24 MB

english, 2003

2

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '99 - Santa Clara, CA (Sunday 14 March 1999)] Advances in Resist Technology and Processing XVI - High-resolution 248-nm bilayer resist

Lin, Qinghuang, Petrillo, Karen E., Babich, Katherina, LaTulipe, Douglas C., Medeiros, David R., Mahorowala, Arpan P., Simons, John P., Angelopoulos, Marie, Wallraff, Gregory M., Larson, Carl E., Fenz

Рік:

1999

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.92 MB

english, 1999

3

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Advances in Resist Technology and Processing XX - Impact of thin resist processes on post-etch LER

Mahorowala, Arpan P., Goldfarb, Dario L., Temple, Karen, Petrillo, Karen E., Pfeiffer, Dirk, Babich, Katherina, Angelopoulos, Marie, Gallatin, Gregg M., Rasgon, Stacy, Sawin, Herbert H., Allen, Scott

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.29 MB

english, 2003

4

Dilemmas and directions for psychiatric nursing in the 1990s

Patricia C. Pothier, Gail W. Stuart, Kathryn Puskar, Karen Babich

Журнал:

Archives of Psychiatric Nursing

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 904 KB

english, 1990

5

Nursing research at NIMH: An update

Angele Barron McBride, Eleanor C. Friedenberg, Karen S. Babich, Carol T. Bush

Журнал:

Archives of Psychiatric Nursing

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 394 KB

english, 1992

6

Blood Pressure and Mood Responses in Hypertensive Patients on Antihypertensive Medications

Kathleen Potempa, Karen Babich, Sharon Fruh, Louis Fogg

Журнал:

Journal of the American Academy of Nurse Practitioners

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 922 KB

english, 1993

7

Foundation for the NIMH strategic plan for mood disorders research

Dennis S Charney, Karen S Babich

Журнал:

Biological Psychiatry

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 17 KB

english, 2002

8

SPIE Proceedings [SPIE 26th Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 25 February 2001)] Emerging Lithographic Technologies V - Tunable antireflective coatings with built-in hard mask properties facilitating thin-resist processing

Mahorowala, Arpan P., Babich, Katherina, Petrillo, Karen E., Simons, John P., Angelopoulos, Marie, Patel, Vishnubhai, Grill, Alfred, Halle, Scott, Conti, Richard, Wu, ChungHsi J., Wise, Richard, Chen,

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 880 KB

english, 2001

9

SPIE Proceedings [SPIE 23rd Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA, United States (Sunday 22 February 1998)] Advances in Resist Technology and Processing XV - Effects of underlayer on performance of bilayer resists for 248-nm lithography

Babich, Katherina, Callegari, Alessandro, Petrillo, Karen E., Simons, John P., LaTulipe, Douglas C., Angelopoulos, Marie, Lin, Qinghuang

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 816 KB

english, 1998

10

SPIE Proceedings [SPIE 23rd Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA, United States (Sunday 22 February 1998)] Advances in Resist Technology and Processing XV - Extension of 248-nm optical lithography: a thin film imaging approach

Lin, Qinghuang, Katnani, Ahmad D., Brunner, Timothy A., DeWan, Charlotte, Fairchok, Cindy, LaTulipe, Douglas C., Simons, John P., Petrillo, Karen E., Babich, Katherina, Seeger, David E., Angelopoulos,

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.19 MB

english, 1998

11

SPIE Proceedings [SPIE 23rd Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 1998)] Emerging Lithographic Technologies II - New family of non-chemically amplified resists

Aviram, Ari, Angelopoulos, Marie, Babich, Edward D., Babich, Inna V., Petrillo, Karen E., Seeger, David E., Vladimirsky, Yuli

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 983 KB

english, 1998

12

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Advances in Resist Technology and Processing XX - Highly etch-selective spin-on bottom antireflective coating for use in 193-nm lithography and beyond

Pfeiffer, Dirk, Mahorowala, Arpan P., Babich, Katherina, Medeiros, David R., Petrillo, Karen E., Angelopoulos, Marie, Huang, Wu-Song, Halle, Scott, Brodsky, Colin, Allen, Scott D., Holmes, Steven J.,

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.22 MB

english, 2003

13

SPIE Proceedings [SPIE SPIE 31st International Symposium on Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 19 February 2006)] Advances in Resist Technology and Processing XXIII - Silicon containing polymer in applications for 193 nm high NA lithography processes

Burns, Sean, Lin, Qinghuang, Pfeiffer, Dirk, Mahorowala, Arpan, Petrillo, Karen, Clancy, Alexandera, Babich, Katherina, Medeiros, David, Allen, Scott, Holmes, Steven, Crouse, Michael, Brodsky, Colin,

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 634 KB

english, 2006

14

Responding to a Changed Reality in the Workplace

Журнал:

Journal of the American Psychiatric Nurses Association

Рік:

1995

Файл:

PDF, 378 KB

1995

15

Responding to a Changed Reality in the Workplace

Журнал:

Journal of the American Psychiatric Nurses Association

Рік:

1995

Файл:

PDF, 378 KB

1995